高真空磁控溅射镀膜机 JCP350设备概述
1、适用：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。
2、产品特点/用途：
► 设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；
► 可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；
► 镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；
► 单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
高真空磁控溅射镀膜机 JCP350技术参数
| 型号 | JCP350 |
| 真空腔室结构 | 立式上开盖结构，后置抽气系统，气动提开式 |
| 真空腔室尺寸 | Φ350×H350mm |
| 加热温度 | 室温～500℃ |
| 溅射方式 | 向上溅射 |
| 旋转基片台 | Φ120mm |
| 膜厚不均匀性 | Φ75mm范围内≤±5.0% |
| 溅射靶/蒸发电极 | Φ2英寸磁控靶2支，兼容DC/RF溅射 |
| 工艺气体 | 2-3路气体流量控制 |
| 控制方式 | PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统 |
| 占地面积 | （主机）L1600×W800×H1920mm |
| 总功率 | ≥8KW |
北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、设计、制造，是一家集真空薄膜新材料沉积设备、真空技术应用设备等相关设备及其工艺的研发、设计、制造、销售、服务于一体的*。
公司的研发中试孵化基地位于毗邻雄安新区的任丘经济技术开发区，距离未来的雄安高铁站约20公里，占地面积20000㎡,不仅建有包括机加工、电气、结构组装，调试等多个中试生产车间和办公楼以及其它辅助厂房；同时建有研发工艺、服务客户的开放实验室。公司还聘请了国内外真空行业zi深的专家、教授作为本公司的技术顾问，确保真空设备产品高水平，始终保持较强的自主研发能力、*的设计概念、领xian的技术优势。
