一、
YY-EDI超纯水设备
1、设备简介
EDI设备又称连续电除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，因此EDI制水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质超纯水
。
二、系统特点：
⊙
产水水质高而稳定。
⊙
连续不间断制水，不因再生而停机。
⊙
无需化学药剂再生。
⊙
设想周到的堆叠式设计，占地面积小。
⊙
操作简单、安全。
⊙
运行费用及维修成本低。
⊙
无酸碱储备及运输费用。
⊙
全自动运行，无需专人看护
三、应用领域：
⊙电厂化学水处理
⊙电子、半导体、精密机械行业超纯水
⊙制药工业工艺用水
⊙食品、饮料、饮用水的制备
⊙海水、苦咸水的淡化
⊙精细化工、精尖学科用水
四，
EDI的进水要求及出水水质：
（一）进水要求：反渗透
RO产水，电导率1-20μs/cm，允许电导率≤30μs/cm（NaCl）。
pH值： 7.5—9
温度：
15℃--35℃
进水压力（
DIN）：0.15—0.4MPa
产水压力
(DOUT)：0.05—0.25MPa
浓水出水压力
(COUT)： 0.02—0.2MPa
进水硬度：＜
1.0ppm(以CaCO 计）(推荐0 5ppm以下）
进水有机物：
TOC＜0.5ppm
进水硅：
SiO2＜0.5ppm
进水总
CO2：＜3ppm
进水颗粒度：＜
1μm
（二）出水水质：中国国家电子级超纯水
GB/TII446.1－1997标准
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指标/级别
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EW－Ⅰ
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EW－Ⅱ
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EW－Ⅲ
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EW-Ⅳ
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电阻率 MΩ，cm(25℃)
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18以上，（95％时间）不低于17
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15，（95％时间）不低于13
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12.0
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0.5
|
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全硅，值,μg/L
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2
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10
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50
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1000
|
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＞1μm微粒数，值，个/mL
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0.1
|
5
|
10
|
500
|
|
细菌个数，值，个/mL
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0.01
|
0.1
|
10
|
100
|
|
铜，值，μg/L
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0.2
|
1
|
2
|
500
|
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锌，值，μg/L
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0.2
|
1
|
5
|
500
|
|
镍，值，μg/L
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0.1
|
1
|
2
|
500
|
|
钠，值，μg/L
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0.5
|
2
|
5
|
1000
|
|
钾，值，μg/L
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0.5
|
2
|
5
|
500
|
|
氯，值，μg/L
|
1
|
1
|
10
|
1000
|
|
硝酸根，值，μg/L
|
1
|
1
|
5
|
500
|
|
磷酸根，值，μg/L
|
1
|
1
|
5
|
500
|
|
硫酸根，值，μg/L
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1
|
1
|
5
|
500
|
|
总有机酸，值，μg/L
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20
|
100
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200
|
1000
|
四，益源
EDI超纯水设备及系统特点：
1，采用的全自EDI电去离子超纯水处理技术，前置预处理配套使用加反渗透处理，有效去除水中各种盐份及杂质，然后运用EDI系统，进一步提升水质，使出水达到用水工艺要求；系统采用全自运控制，具有产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保、维护方便等优点，广泛应用于电子、医药、电力等相关行业。
2、解决方案与设计优势
1）、反渗透系统采用全自动方式控制，主要元件采用进口元件，稳定性高，操作简单方便；
2）、配备专用浓水调节阀，操作方便；
3）、配备有紫外线及膜滤器，防止细菌对EDI及水质的影响；
4）、通过专业技术，确保EDI系统短时停机或长时间停机时水质保持稳定；
5）、采用进口膜堆，性能稳定，使用寿命长，连续出水水质稳定无波动，“全填充”浓水室，不需加盐和浓水循环；
6）、EDI流量计采用带磁感应浮子流量计，可预防因浓水通道堵塞或其他设备故障引起的无浓水产水而对膜堆造成的损坏；
7）、具有无水保护和高、低压力保护等多种装置安全功能；
8）、所有控制采用全自动方式，主要元件采用进口元件，稳定性高，操作简单方便；
9）、主要电器元件采用法国施耐德或同等品牌，，运行更稳定。
3、设备功能
1）、EDI系统，功用：EDI系统又称连续电除盐技术，通过阳阴离子膜对阳阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。
2）、紫外线杀菌器，功用：通过紫外线杀死水中细菌，确保水质。
3）、膜滤器功用，功用，滤除紫外线杀死的细菌及其它微粒。
五，两级
RO+EDI水处理工艺流程：
