X荧光膜厚仪 返回列表页

X荧光膜厚仪产品介绍

X荧光膜厚仪是通过一次X射线穿透金属元素样品时·产生低能量的光子，俗称为二次荧光，,在通过计算二次荧光的能量来计算厚度值，一种无损、快速、精确的膜厚测试仪器，对金属镀层（镀金、镀锡、镀锌、镀铝、镀铅、镀银、镀镍等），广泛应用于电路板、连接器、金属丝、链接插件、引线框架、汽车零部件、半导体、电子产品、五金工具等企业中，打破了国外（例如：德国Fischer）垄断局面，在电镀行业占有 一定地位，为企业提供有效解决方案。

X荧光膜厚仪技术参数

*工作稳定性高，故障率低。

多变量非线性回收程序

相互独立的基体效应校正模型

元素分析范围从硫（S）到铀（U）中间的任意金属镀层（镀金、镀锡、镀锌等）

一次可同时分析多达五层镀层，快速、准确。

zui薄可测试0.005μm

分析含量一般为2ppm到99.9%

镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）

任意多个可选择的分析和识别模型

度适应范围为15℃至30℃

电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源

仪器尺寸：576（W） x 495 （D） x 545（H） mm

重量：90 kg

性能优势

鼠标可控制移动平台，鼠标点击的位置就是被测点

高分辨率探头使分析结果更加精准

良好的射线屏蔽作用

测试口高度敏感性传感器保护

满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求

zui小φ0.1mm的小孔准直器可以满足微小测试点的需求

高精度移动平台可精确定位测试点，重复定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光，可自动定位测试高度

定位激光确定定位光斑，确保测试点与光斑对齐

检测实例

铜镀镍样品

X荧光膜厚仪测试谱图