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Wafer封装等离子清洗机

2021-11-29  阅读(1060)

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Wafer封装等离子清洗机是一款针对从wafer制造的高效率光刻胶去除工艺到芯片封装领域*的等离子处理设备 ,适用于wafer清洗及芯片封装批理生产的多功能设备,满足客户多方位需求


等离子清洗机可满足大多数应用需求,适合大批量生产,也能满足实验室要求。

基板表面清洗

✦ 掩膜去除

✦ 改善倒装焊底部填充

晶圆表面污染物去除
BGA植球前清洗
改善金球焊接
改善压膜分层

环氧树脂去除(包含SU-8)

改善塑封/封胶


等离子清洗机能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。



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