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等离子体清洗机去除晶圆表面光刻胶
2022-3-23 阅读(1089)
等离子体清洗机去除晶圆表面光刻胶
等离子体清洗机在处理晶圆表面光刻胶时，等离子表面清洗能够*去除表面光刻胶和其余有机物，也可以通过等离子活化和粗化作用，对晶圆表面进行处理，能有效提高其表面浸润性。相比于传统的湿式化学方法，等离子体清洗机干式处理的可控性更强，一致性更好，并且对基体没有伤害。
等离子清洗机（Plasma Cleaner）又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合，通过等离子清洗机的表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂.
晶圆等离子体刻蚀清洗机适应范围: LED 的蚀刻， ITO 膜的蚀刻， 塑模和封装前进行处理，减少封装分层；硅晶片的蚀刻与表面有机物的清洗;Flip chip采用underfill工艺底部填充前进行处理，可以提高填充速度、减少空洞率、增加填充高度及一致性、增加填充物的附着力。
等离子清洗机具有操作方便、效率高、表面清洁、无划痕等优点，有利于保证产品质量。而且不使用酸、碱、有机溶剂
