多晶硅。单晶硅生产废水中，电子半导体工业生产过程产生的废水。多晶硅生产及研磨废水产生量大，传统方法处理后出水的有毒、有害金属离子.氟等不能稳定达标，由于我国水资源的时空分布非常不均，伴随着城市用水量的逐步增加，水资源污染问题日益突出，缺水问题日益严重，处理后水直接排出，浪费了宝贵的水资源，必须进行水循环利用，水回用既有很高的社会和环境效益，又能降低环境排放，又能降低环境污染。未经回收的氯硅烷低沸物和.净化分离塔的不凝气.还原炉开停炉置换尾气.在各系统检修中，如置换尾气等工艺废气经尾气淋洗塔淋洗处理产生的酸性废水，水的含量与工艺废气的排放.氯硅烷和的浓度直接相关。为了保证处理后的废气达标排放，所排放的工艺废气或氯硅烷中的氯硅烷含量越高，废水的产水量就越大。该部分废水是多晶硅生产废水的主要成分，一般占多晶硅生产废水的90%以上，其主要污染物为盐酸-硅烷水解产生的Si02等，经人工或机械刮捞后的酸性废水沿沟槽或管道排入废水站调节池。

多晶硅生产废水处理技术介绍

1、药剂配制

(1)石灰乳的制备。用石灰乳搅拌槽注入一定体积的再生水，慢加200目石灰粉(OH)2含量在70%以上，连续搅拌，制备出20%的石灰乳溶液。二组石灰乳搅拌槽，一套一套，交替运行。

(2)PAC溶液的制备。A120，含量>30%.盐基度>80%的PAC按比例缓慢添加到与回水定容相相的溶解配置搅拌槽，不停地搅动5%的PAc溶液，打开放液阀，使配制过的PAc溶液进入溶液槽用于处理系统。二套溶液槽一组，一组一组使用。

(3)制备PAM溶液。将定量的回流水注入PAM配制的搅拌槽，启动搅拌器，分子量>l200万的阳离子高效絮凝剂PAM人工缓慢地在槽内注入，将5%o的PAM溶液充分搅拌，然后打开放液阀，将一定量的5%oPAM溶液注入两个溶液槽，开动溶液槽搅拌机，加回水到溶液槽中充分搅拌充分溶解制备成0.5‰的药液，将两组PAM溶液槽进行混合，一组采用一组组合，交替进行。该搅拌机在配制及使用过程中，要防止药液沉淀或结胶。

2、中和

酸度废水是由提升泵送到中和槽中和石灰乳液中和反应，因反应需要一定时间，控制不好容易导致出水pH不能满足工艺要求。为了确保处理系统连续稳定运行，该工艺采用两段中和槽串连，将酸性废水从级中和槽下进入，在中和槽中下段，污水经上部溢流从二层中和槽下端进入，并在中和槽中下部与石灰乳混合，迅速反应与搅和作用。采用调节两级中和槽投石灰乳，同时控制两级中和槽搅拌率，使一级中和槽出水pH达到4—5，二级中和槽出水pH达到7—8。

3、混合

其混凝过程的本质是混凝荆水解物在水中的扩散，使水中胶体颗粒同时脱稳而形成凝聚，为达到良好的絮凝效果创造条件，是节约投药量的关键。该技术采用管式微涡管混合器作混合装置，在输送泵前加入PAc溶液，泵后加入PAM溶液，PAC.PAM水解物通过湍流微涡旋和离心惯性效应，在废水中充分扩散。因此，较好地对废水中形成的胶粒进行了脱稳。对絮凝沉淀系统出水水质进行调节，一般控制在每立方米污水中加入5%PAC药液6一10L，投加0.5‰。

4、絮凝沉淀

该过程利用一体化污水净化装置，将直流混凝.微絮凝.重力沉淀.离心分离.动态过滤.污泥浓缩等有机组合于一体，集一整套设备于一体。通过对混合液在净化器中的惯性作用和湍流剪切力的充分利用，当废水沿着切线方向高速进入净化器后，在净化器内的特殊结构下通过压缩双电层.吸附电中和.吸附架桥.沉淀和网捕集等，迅速形成浓密的矾花及大絮体，受霞力和离心力影响，浓密的矾花和较大的絮体颗粒滑入锥形污泥浓缩区，废水沿罐壁向下悬流到一定程度，然后向靠拢，在上浮过程中形成的悬流不断上升，进入动态过滤区深度处理，滤出的合格废水由清水管道流入回用池外排放。

5、污泥处理

通过对一体化污水净化装置进行监测，合理安排采样周期，将一体化污水净化器污泥浓缩区污泥排至污泥池；开泵、板框压滤机对污泥进行处理，并将滤水送回中间水箱进行处理，当板框压滤机不进水时，停泵或将污泥送至另一台板框式压滤机，按板框压滤机的工作程序自动排渣，滤渣经皮带运输机送至渣场定期外运处理。