等离子清洗机,等离子表面处理仪是一种表面处理设备， 用气体作为处理介质，它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体，等离子体对固体...

PI真空固化烤箱，水冷却PI固化炉用于光刻胶BCB，聚酰亚胺PI固化，晶圆干燥烘烤等工艺

百级洁净烘箱，封装百级烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、C...

恒温热板，精密热板适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。

PI无氧烘箱工艺流程用于半导体/电子/新材料/新能源等行业。BCB、PI、PBO胶固化，LCP新材料、锂电池等产品热处理。

精密干燥箱，高精度烘箱用于半导体，电子，实验室，金属，橡胶等行业。烘干，固化，老化等工艺。可延伸为真空烘箱，无氧烘箱，洁净烘箱，HMDS烘箱等。

二极管洁净烘箱，LED氮气烘箱在工作时，工作室内充满了惰性气体CO2,N2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途：IC包装，LCD,晶体管，传感器，...

百级烘箱，百级无尘烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMO...

PI烘箱，厌氧烘箱固相亚胺化常用于PI薄膜的制备即将PAA溶液浇铸成膜后加热进行亚胺化溶液亚胺化是在PAA溶液中加入共沸溶剂加热回流通过共沸溶剂的蒸出带出反应过...

HMDS烘箱、HMDS预处理系统降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、...

智能型无尘无氧烘箱，高温无尘 无氧化烘箱又称为PI固化烘箱，厌氧烘箱，高温无氧烘箱，用于PI、BCB胶高温固化、LCP热处理烘烤、光刻胶固化等电子，半导体、新材...

高温氮气真空烤箱，400度无氧烘箱用于键合材料的真空预处理 、光刻胶固化、坚膜，BCB固化、ITO膜退火，PI（聚酰亚胺）固化等工艺

氮气真空无氧烘箱,高温无氧真空烘箱用于键合前键合材料的真空固化 、LCP膜热处理，BCB/PI胶固化等工艺。 广泛应用于半导体、电子产品、新材料、医疗卫生等行业...

真空无氧烘箱，PI固化厌氧烤箱用于PI/BCB/LCP固化，半导体封装等。温度范围：RT+30～450℃； 温度波动度：±1℃；温控精度：0.1℃;氧...

高精度数显恒温加热台光刻光刻工艺中需要烘烤的步骤有：预烘培和底漆涂敷、软烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤

充氮恒温热板，氮气高温加热台应用于精密电子元件、PI、BCB胶高温固化烘烤、银胶固化、掩膜版烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、...

半导体光刻胶烤胶机，基片烘胶台定制支撑pin材料边缘支撑pinN2吹扫，无氧化烘烤烘焙距离可调模组真空腔体智能型控制系统

精密烤胶机，高精度烘胶台是我司针对研究的需要设计了一种温度控制精度高,板面温度均匀性好,成本低的电加热板,用于光刻胶的烘干.

精密烤胶台，高精度烘胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、...

小型烘胶台定制，恒温烤胶台说明对一些温度敏感材料（如晶体、半导体、陶瓷等）进行加热和装卡尤为适用。设备结构简单，操作简便，安全可靠，是从事半导体热处理、材料研究...