智能型无尘无氧烘箱、厌氧洁净烘箱应用于精密电子元件、PI、BCB 胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、无尘烘干的特殊工艺要求

高加速温湿度试验机，高压加速老化试验箱主要用于对电工、电子产品、半导体、IC芯片、固态存储器、DRAM、闪存卡及模块、元器件、零部件、金属材料、塑料晶体管外形封...

HAST高压老化寿命试验箱，高加速温湿度机台用于评估非气密性封装IC器件、金属材料等在湿度环境下的可靠性。通过温度、湿度、大气压力条件下应用于加速湿气的渗透，可...

高精度加热台，精密热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核...

电容烘箱，可程式工业烘箱技术先进、设备性能稳定、使用可靠，操作简单，维修方便，同时考虑 方案的经济性和可实施性，结合试品特点和试验程序实际情况，实现低投入高产出...

充氮PI烤箱，PI充氮烤箱用于PI、BCB、LCP固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求适合半导体制造、COB封装、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密...

半导体工艺洁净烘箱，百级无尘烘箱具有*设计的强鼓风循环系统确保了温度的稳定性，高效循环过滤系统确保箱内的洁净度,控温装置采用 PID 数显控温（可选触摸屏等），...

真空无氧烘箱，高温无氧真空烤箱用于PI胶、BCB胶固化，键合材料预处理，ITO膜退火，PR胶排胶固化等特殊工艺。适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、PC...

全氟辛基三氯硅烷涂胶机，抗粘剂PFTS烘箱主要用于纳米压印光刻（NIL）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶；以及功率半导体,LED,MEM...

冷热冲击测试机，冷热循环气流仪在短的时间内（约10秒）检测样品因高低温冷热冲击（）-65℃～220℃）所引起的化学变化和物理伤害，减少测试与验证时间，快速提高产...

快速热处理退火炉，半导体RTP快速退火 炉可用于硅及其他化合物材料离子注入后的退火，硅化物形成，欧姆接触制备以及快速氧化，快速氮化等方面。该设备具有很好的长时间...

不锈钢无尘烤箱，双层无尘烘箱应用于目前关键的半导体电子行业（如硅片干燥，坚膜烘烤，装片机后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，双层无尘烘箱还在LED制造行业...

无氧烘箱，无氧化烘箱在半导体集成电路制造过程中，晶圆表面预处理、涂胶、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、对准、显影、显...

硅片清洗设备，硅片全自动清洗机应用于集成电路，MEMS器件，微波器件，先进封装等工艺。去胶清洗设备，显影清洗设备，酸碱刻蚀机。也可用于零部件清洗，石英管道清洗，...

刻蚀机，半导体刻蚀台用于半导体芯片、衬底片的清洗及湿法腐蚀、去胶、去蜡、剥离等工艺的设备。

马弗炉，1200度高温炉应用于高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测。粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小，进行...

精密热风循环烘箱用途适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。 也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其它高温试...

工业烘箱，氮气烘箱，高温充氮烤箱工作室为光亮型全不锈钢结构。工作室内温度采用智能式数显温度控制仪进行自动控制P.I.D调节,数显时间控制,并设有断路及超温报警,...

热板，高精度加热平台采用铝板作为工作表面,其内置不锈钢加热棒,导热性能好,升温快，采用PID调节仪控温，可以精确控制平台的加热温度.适用于半导体光刻工艺的前烘和...

无尘烘箱，MES百级烘箱用于高精度硅上薄膜电阻制造过程中的坚膜工艺，也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。