NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉 返回列表页

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉用途：

   在光刻胶的处理过程中，调整其极性对于实现精确的图形转移至关重要。氨气作为一种有效的极性调节剂，在光刻胶中发挥着关键作用。使得光刻胶在半导体、光学器件及生物芯片等制造领域能够更精准地适应图形转移的需求，提升产品的制造质量和精度。氨气通过其化学性质，在光刻胶中发挥着调整极性、优化图形转移效果的重要作用，是微细制造领域的关键材料之一。

   氨气真空烘烤系统广泛应用于新材料（如超材料、表面工程）、前沿物理研究（如超导、量子）、仿生（功能性表面）、光子（微纳光学、光波导、光子晶体）、生物（DNA测试、纳流控）、微电子等研究领域，以及3D结构光器件、光子芯片、高功率芯片等加工领域。

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉技术性能：

容量：2-12寸晶圆或方片兼容，可定制

温度范围： RT-200℃

真空度： ≤100pa

控制仪表： 人机界面+PLC

气路控制： 多气路控制

真空泵： 高品质涡旋无油泵

保护装置： NH3监测保护，超温保护，漏电保护等

NH3氨气烘箱 氨气图形反转炉特点：

具有重复性好

更加稳定

环保，对人体无害的显著优点

也可用于其它硅烷沉积工艺的处理